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脈沖激光沉積設(shè)備—PLD-400

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合肥致真精密設(shè)備有限公司

安徽

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)

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面議

品牌：

致真精密

型號(hào)：

脈沖激光沉積設(shè)備—PLD-400

關(guān)注度：

675

產(chǎn)品介紹

脈沖激光沉積設(shè)備是高校和科研院所常用的氧化物和多組分薄膜沉積設(shè)備，該設(shè)備具有簡(jiǎn)單可靠、運(yùn)行穩(wěn)定的特點(diǎn)。PLD-400型脈沖激光沉積設(shè)備，標(biāo)配6個(gè)1inch靶材，靶材可以原位更換，配合RHEED和準(zhǔn)分子激光器可以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量薄膜的沉積。

性能參數(shù)

晶圓尺寸	2inch
極限真空	5×10-9mbar
溫控	RT-1200℃
靶臺(tái)數(shù)量	6個(gè)1inch 靶材或3個(gè)2inch靶材靶臺(tái)公自轉(zhuǎn)設(shè)計(jì)（可單獨(dú)旋轉(zhuǎn)）
靶材更換	原位更換靶材
激光源	準(zhǔn)分子激光器
常用材料	BFO、SRO、VO2等
占地面積	3m L2m W2m H
可選	自動(dòng)傳輸、反應(yīng)沉積、膜厚儀、工藝菜單、高壓RHEED等

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脈沖激光沉積設(shè)備—PLD-400

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