主要優(yōu)勢

用于晶圓邊緣多種不同疊加薄膜層的刻蝕清洗，提高先進工藝的晶圓邊緣良率

高刻蝕精度，刻蝕寬度大小可調(diào)

自主**技術(shù)可做到更精準(zhǔn)高效的晶圓對準(zhǔn)，控制精度高、均勻性高，可實現(xiàn)精準(zhǔn)邊緣刻蝕

高產(chǎn)能，低化學(xué)品消耗

設(shè)備和工藝可擴展至10nm以下工藝技術(shù)節(jié)點

對下層材料刻蝕具有高選擇比，對晶圓無損傷的特點

出色的晶圓邊緣清洗能力，更好的顆粒控制

可靈活應(yīng)用于多種襯底材料，包括重?fù)诫s片、Bonding 片、超薄片等

特性和規(guī)格

適用于12寸晶圓邊緣清洗

*多可配置4個Lord Port

可配置12個工藝腔體

真空夾盤對晶圓進行夾持

可對晶圓正背面邊緣進行清洗，*多可配備5種藥液進行清洗工藝

每個腔體均配置高精度的晶圓對中單元

可配置高精度的晶圓邊緣檢測單元