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藥物檢測(cè)專用儀器
面議
977
德國(guó)Nanoscrib 雙光子微納3D打印機(jī)Quantum X
重新定義精密加工。
全新的量子X(jué)是世界上基于雙光子灰度光刻(2GL)的工業(yè)系統(tǒng)。我們的設(shè)備結(jié)合了灰度光刻機(jī)的**性能和納米篩網(wǎng)首創(chuàng)的雙光子聚合技術(shù)的精確性和靈活性。該無(wú)掩模光刻系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了二維和2.5D的衍射和折射顯微光學(xué)的快速制作。
Quantum X軟件實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè),并執(zhí)行自動(dòng)系統(tǒng)校準(zhǔn)。用戶-機(jī)器交互由專用觸摸屏或遠(yuǎn)程控制界面支持。
關(guān)鍵特性
2.5 d高速精密加工
超光滑的表面和**的形狀精度設(shè)計(jì)自由度,亞微米分辨率完整和超快控制體素尺寸自動(dòng)化過(guò)程,例如校準(zhǔn),
作業(yè)執(zhí)行和監(jiān)視
廣泛的基材樹脂組合,通過(guò)作業(yè)隊(duì)列觸摸屏和遠(yuǎn)程控制界面,連續(xù)執(zhí)行各種打印作業(yè)
TechnicalSpecifications | |
Printing technology: | Two-Photon Grayscale Lithography (2GL) |
Minimum XY feature size: | 160 nm typical; 200 nm specified* |
Finest XY resolution: | 400 nm typical; 500 nm specified* |
Finest vertical steps: | 10 nm, quasi-continuous topographies possible |
Minimum surface roughness Ra: | ≤ 10 nm* |
Scan speed: | ≤ 250 mm/s* |
Area printing speed: | 3 mm2/h typical for diffractive optical elements |
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動(dòng)劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
HSE系列等離子刻蝕機(jī)