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Elionix電子束曝光系統(tǒng)

直接聯(lián)系

上海納騰儀器有限公司

日本

產(chǎn)品規(guī)格型號
參考報(bào)價(jià):

面議

關(guān)注度:

1328

產(chǎn)品介紹

品牌:Elionix

型號:ELS-F125/F100/HS50

關(guān)鍵詞標(biāo)簽:電子束曝光,電子束直寫

簡短描述:(<40字):利用電子束在抗蝕劑上書寫納米級圖案,通過ELB設(shè)備曝光和顯影,可用于加工sub-10nm的精細(xì)結(jié)構(gòu)。

一、簡介

ELS-F125Elionix推出的世界上*早的加速電壓高達(dá)125KV的電子束曝光系統(tǒng)之一,其可加工線寬下限為5nm的精細(xì)圖形。(以下參數(shù)基于ELS-F125)

ELS-F125具有以下優(yōu)點(diǎn):

l超高書寫精度

- 5 nm 線寬精度 @ 125 kV

- 1.7 nm 電子束直徑&鄰近效應(yīng)*小化 @ 125 kV

l高通量、均勻性好

- 超大視野書寫:500um視場下10 nm線寬

- 高束流下電子束直徑依然很小,高通量而不影響分辨率,2 nm 電子束直徑@ 1 nA

l界面用戶友好

基于Windows系統(tǒng)的CADSEM界面:

-簡單易用的圖案設(shè)計(jì)功能

-易于控制的電子束條件

二、主要功能

l主要應(yīng)用

納米器件的微結(jié)構(gòu)

集成光學(xué)器件,如光柵,光子晶體等

NEMS結(jié)構(gòu),復(fù)雜精細(xì)結(jié)構(gòu)

光刻掩模板,壓印模板

l技術(shù)能力

型號

ELS-F125

ELS-F100

ELS-HS50

電子槍

ZrO/W 熱場發(fā)射槍

ZrO/W 熱場發(fā)射槍

ZrO/W 熱場發(fā)射槍

加速電壓

125 kV, 75 kV, 25 kV

100 kV, 50 kV, 25 kV

50 kV, 20 kV

*小束流直徑

Φ 1.7 nm (@ 125 kV)

Φ 1.8 nm (@ 100 kV)

Φ 2.8nm (@ 50 kV,1 nA)

*小線寬

5 nm or less (@125 kV)

6 nm or less (@100 kV)

20 nm (@ 50 kV, 2 nA)

電子束束流

5 pA to 100 nA

20 pA to 100 nA

1 nA to 1 μA

視場范圍

Max. 3,000 μm 3,000 μm

Max. 3,000 μm 3,000 μm

Max. 3,000 μm 3,000 μm

Min. 100 μm 100 μm

Min. 100 μm 100 μm

Min. 100 μm 100 μm

束流定位

Max. 1,000,000 1,000,000 (20bit DAC)

Max. 1,000,000 1,000,000 (20bit DAC)

Max. 1,000,000 1,000,000 (20bit DAC)

束流定位分辨率

Min. 0.1 nm

Min. 0.1 nm

Min. 0.1 nm

大樣品尺寸

8" wafer or 7" square mask

8" wafer or 7" square mask

8" wafer or 7" square mask

三、應(yīng)用

產(chǎn)品咨詢

Elionix電子束曝光系統(tǒng)

上海納騰儀器有限公司

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Elionix電子束曝光系統(tǒng) - 1328
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