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>碳膜濺射設(shè)備 CS-200

碳膜濺射設(shè)備 CS-200

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直接聯(lián)系

天津市萬(wàn)德思諾國(guó)際貿(mào)易有限公司

天津

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)
參考報(bào)價(jià):

面議

品牌:

萬(wàn)德思諾

型號(hào):

碳膜濺射設(shè)備 CS-200

關(guān)注度:

261

產(chǎn)品介紹

產(chǎn)品圖片:

產(chǎn)品型號(hào):

CS-200

產(chǎn)品介紹:

Dense carbon film for high temp. anneal

Max. Substrate φ200㎜(Transfer tray available)

 

產(chǎn)品特點(diǎn):


    • 1. Key point for carbon process
      - Front(Ion Implantation) and Back(Annealing) processes are well known.

  •  

    • 2. Good process experience for CC deposition
      - AIST and SIC production company uses ULVAC system.

  •  

    •  3. Optional items
      - High temp stage, RF stage bias, 3MFC line, DRP, etc.

 


產(chǎn)品咨詢

碳膜濺射設(shè)備 CS-200

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碳膜濺射設(shè)備 CS-200 - 261
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