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面議
628
韓國(guó)ATI 晶圓檢查機(jī)WIND
Wafer inspection system
ITEM Descriptions
視覺(jué):2D, 3D光學(xué)模塊,實(shí)時(shí)自動(dòng)對(duì)焦
檢驗(yàn)測(cè)量項(xiàng)目:
•2D正常&鋸切檢查:裂紋、缺口、顆粒、劃痕、圖案缺陷、污染、NCF空洞、探針標(biāo)記、殘留等。
•2D凹凸檢查:排錯(cuò)、殘留、壓痕、丟失、劃痕、異常(攻擊)等。
•2 d測(cè)量:圓片邊緣修剪,切口(鋸圓片),凹凸直徑
•3 d測(cè)量:凹凸高度,翹曲,共面性,晶片厚度,BLT
應(yīng)用程序:200㎜& 300㎜晶片,300㎜& 400㎜環(huán)陷害晶片*自由轉(zhuǎn)換
機(jī)架類型:細(xì)鋼絲,白色粉末涂層
加載端口:圓片環(huán)形盒(8 ",12 "),圓片盒(FOUP,開(kāi)口盒)
晶片對(duì)齊:200㎜& 300㎜晶片,300㎜& 400㎜環(huán)幀定位
自動(dòng)化:秒/寶石300㎜,半E84, *合規(guī)標(biāo)準(zhǔn)
尺寸:1900㎜x 1680㎜x 2100毫米,3.5噸
Vision:2D, 3D Optic Module, Real-time Auto Focus
Inspection &Measurement Items:
• 2D Normal & SawingInspection:Crack, Chipping, Particle, Scratch, Pattern Defect, Contamination, NCF Void, Probe Mark, Residue, etc.
• 2D BumpInspection:Misalign, Residue, Press, Missing, Scratch, abnormal(Attack), etc…
• 2D Measurement:Wafer Edge Trim, Kerf(Sawing Wafer), Bump Diameter
• 3D Measurement:Bump Height, Warpage, Coplanarity, Wafer Thickness, BLT
Applications:200㎜ & 300㎜ Wafer, 300㎜ & 400㎜ Ring Framed Wafer * Conversion Free
Frame type:HAIRLINE SUS STEEL, White Powdered coating
LoadPort:Wafer Ring Cassette(8’’, 12’’), Wafer Cassette(FOUP, Open Cassette)
WaferAlignment:200㎜ & 300㎜ Wafer, 300㎜ & 400㎜ Ring Frame Alignment
Automation:SECS/GEM 300㎜, SEMI E84, * Compliance most of standards
Dimension: 1900㎜ x 1680㎜ x 2100mm, 3.5ton
晶片宏觀檢測(cè)
? 利用雙鏡頭系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)能
? 可檢測(cè)切割完成后的芯片
? 切縫檢測(cè)
? 利用從相鄰的4個(gè)晶粒中提取出一個(gè)**晶粒,實(shí)現(xiàn)D2D高級(jí)算法
? 內(nèi)置驗(yàn)證檢查模組
? 自主研發(fā)的鏡頭,具有視野廣,像素高的特點(diǎn)。
? 采用實(shí)時(shí)自動(dòng)對(duì)焦模組
? 可選IR檢測(cè),裂縫及硅片內(nèi)部碎片
- 裂紋檢測(cè)
晶片變薄 & 切割領(lǐng)域檢測(cè)
- 三維檢測(cè)Bump
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動(dòng)劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
HSE系列等離子刻蝕機(jī)