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臺(tái)式磁控濺射儀

直接聯(lián)系

科睿設(shè)備有限公司

美國(guó)

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)
參考報(bào)價(jià):

面議

關(guān)注度:

1200

產(chǎn)品介紹

該系統(tǒng)可以作為以下功能裝置:

1,研發(fā)級(jí)R&D鍍膜設(shè)備,性能優(yōu)異

2,具備所有研發(fā)級(jí)別的鍍膜要求

3,高效的沉積速率,鍍膜時(shí)間快

4, 實(shí)驗(yàn)室中培訓(xùn)的**工具

主要的特點(diǎn)和先進(jìn)的功能:

1, 臺(tái)式,小型,快速

2,全自動(dòng)化程序控制

3,單靶或多靶聯(lián)合濺射鍍膜,多路氣體管路

4,共聚焦設(shè)計(jì),靶槍尺寸:2英寸,3英寸,4英寸,襯底可做到200mm,旋轉(zhuǎn)1-20RPM,以及Load-lock配置

5,配置干泵+分子泵,可達(dá)高真空,適用高品質(zhì)薄膜沉積。

6, 可做直流濺射,射頻濺射,100W射頻偏壓(用于襯底表面清洗)

性能價(jià)格比高??!

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