粉體行業(yè)在線展覽
SiC高溫退火設備
面議
山東力冠
SiC高溫退火設備
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技術指標/Technical Indicators:
晶片尺寸: 4/6英寸 Wafer size: 4/6 inches | 工作溫度范圍: 800-2000°C Perating temperature range: 800-2000°C |
裝片量: 50/80片 Loading capacity: 50/80 tablets |
應用范圍/Scope:
? 用于SiC基半導體材料的離子激活和退火處理
lon activation and annealing treatment for SiC-based semiconductor materials