粉體行業(yè)在線展覽
晶圓光刻膠
面議
湖北鼎龍
晶圓光刻膠
308
晶圓光刻膠是半導體制造光刻工藝中*關(guān)鍵的材料。在光刻過程中,光刻膠經(jīng)涂膜,前烘,曝光,后烘,顯影等步驟后可將電路圖形由掩模版轉(zhuǎn)移到光刻膠上,再經(jīng)過刻蝕工藝,實現(xiàn)電路圖形由光刻膠轉(zhuǎn)移到硅片上。隨著集成電路線寬縮小、集成度的提升,光刻膠開發(fā)技術(shù)難度大幅增加,成為延續(xù)摩爾定律的關(guān)鍵技術(shù)之一。
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
等離子化學氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
HSE系列等離子刻蝕機