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高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備TEMD600

高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備TEMD600

直接聯(lián)系

北京泰科諾科技有限公司

北京

產(chǎn)品規(guī)格型號
參考報(bào)價(jià):

面議

品牌:

北京泰科諾

型號:

高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備TEMD600

關(guān)注度:

24

產(chǎn)品介紹

設(shè)備型號:TEMD600
鍍膜方式:E 型電子槍
真空腔室結(jié)構(gòu):立式圓柱形側(cè)開門結(jié)構(gòu),后置抽氣系統(tǒng)
真空腔室尺寸:Φ600mm×H750mm
加熱溫度:室溫~ 300℃
基片臺尺寸:平板型 Φ350mm,或球罩型基片臺 ( 可選 )
膜厚不均勻性:≤ ±5.0%
考夫曼離子源:可選
蒸發(fā)源:電子槍 10KW,6穴坩堝,國產(chǎn)/進(jìn)口(可選), 配2套電阻蒸發(fā)
控制方式:PLC/PC(可選)
占地面積:L2500mm×W1600mm
總功率:≥ 17kW

適用范圍.jpg


大專院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行薄膜新材料的科研與小批量制備。


特點(diǎn)用途.jpg


1. 設(shè)備一體化設(shè)計(jì),占地面積小,性價(jià)比高,性能穩(wěn)定,使用維護(hù)成本低;

2. 可用于生產(chǎn)線前期工藝試驗(yàn)等;   

3. 實(shí)驗(yàn)室制備導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體膜、光學(xué)薄膜等,可同手套箱復(fù)合使用。


產(chǎn)品咨詢

高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備TEMD600

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