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面議
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濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng)
手動(dòng)型SCS112
SCS112型是一款高效率手動(dòng)型的系統(tǒng),專門設(shè)計(jì)用于在劃片或劃片后清洗晶片??赏ㄟ^施加高壓DI水射流或霧化噴嘴來清潔安裝在環(huán)(抓環(huán))或膠片框架上的晶圓,然后使用高轉(zhuǎn)速,氮?dú)廨o助或紅外加熱燈進(jìn)行快速干燥。該系統(tǒng)**可處理8英寸晶圓。
功能:
可處理高達(dá)8英寸的晶圓,包括未安裝的晶片以及膠帶環(huán)形和薄膜框架安裝晶片。
振蕩高壓直流水,風(fēng)扇射流組裝(取決于高達(dá)1500或2000磅/平方英寸配置上)或霧化噴霧噴嘴,高效清潔。
快速有效干燥的氮?dú)獯祾吆脱h(huán)結(jié)束時(shí)的氮晶片提升。
微處理器控制并儲(chǔ)存多種配方。
直流無刷主軸電機(jī)變速。
DI水凈化,營(yíng)造無細(xì)菌系統(tǒng)。
內(nèi)置安全聯(lián)鎖和正極蓋,運(yùn)行期間鎖定。
選項(xiàng):
托盤,**可裝載8英寸晶片
用于干燥的紅外線加熱燈
消除靜電的二氧化碳再生離子器
內(nèi)置排氣鼓風(fēng)機(jī)
真空發(fā)生器
產(chǎn)品參數(shù):
產(chǎn)品:晶圓,光掩膜和基板清潔系統(tǒng)
型號(hào):SCS112
可用機(jī)械臂:1
**基板尺寸:高達(dá)8英寸的晶圓片
**主軸速度:2500
配方:*多3
分配:1
尺寸:26英寸寬x 21英寸深x 40英寸高
重量:約200磅
功率:220伏交流電,10安培,50/60赫茲
手動(dòng)型SCSe124
SCSe124型是用于光掩模,晶圓和基材的亞微米級(jí)清潔的理想解決方案。該系統(tǒng)非??煽壳揖哂谐杀拘б妫?jīng)過驗(yàn)證,擁有各種清潔技術(shù)。SCSe124可以配置幾種不同的清潔選項(xiàng),包括高壓DI水,霧狀噴嘴,刷子,Megasonic噴嘴等等??焖儆行У母稍锛夹g(shù)是結(jié)合了可變轉(zhuǎn)速和可選項(xiàng)加熱DI水,氮?dú)廨o助或加熱燈。SCSe124具有微處理控制器,該控制器可調(diào)整過程參數(shù),并儲(chǔ)存多達(dá)10個(gè)程序。
功能:
可處理直徑高達(dá)10英寸的基板。
主軸組件帶有直流無刷電機(jī)(可升級(jí)以獲得更多功能)。
可調(diào)節(jié)機(jī)械臂速度和行程位置。
徑向排氣腔,可實(shí)現(xiàn)**層流。
獨(dú)立式聚丙烯腔室。
微處理器可控制10個(gè)程序段。
內(nèi)置安全聯(lián)鎖。
按鈕蓋啟動(dòng)打開/關(guān)閉。
觸摸屏圖形用戶界面(GUI),易于編程和安全鎖定以及屏幕錯(cuò)誤報(bào)告。
*多可使用2個(gè)機(jī)械臂。
產(chǎn)品參數(shù):
產(chǎn)品:晶圓,光掩膜和基板清潔系統(tǒng)
型號(hào):SCSe124
可用機(jī)械臂:2
**基板尺寸:直徑10英寸晶圓片
**主軸速度:2500
配方:*多10
分配:12
手動(dòng)型SCSe126
SCSe126型是用于光掩模,晶圓和基材的亞微米級(jí)清潔的理想解決方案。該系統(tǒng)非常可靠且具有成本效益,它經(jīng)過驗(yàn)證,擁有各種清潔技術(shù)。SCSe126可以配置幾種不同的清潔選項(xiàng),包括高壓DI水,霧狀噴嘴,刷子,Megasonic噴嘴等等。快速有效的干燥技術(shù)是結(jié)合了可變轉(zhuǎn)速和可選項(xiàng)加熱DI水,氮?dú)廨o助或加熱燈。SCSe126具有微處理控制器,該控制器可調(diào)整過程參數(shù),并儲(chǔ)存多達(dá)10個(gè)程序。
功能:
可處理直徑高達(dá)10英寸的基板。
主軸組件帶有直流無刷電機(jī)(可升級(jí)以獲得更多功能)。
可調(diào)節(jié)機(jī)械臂速度和行程位置。
•徑向排氣腔,可實(shí)現(xiàn)**層流。
•獨(dú)立式聚丙烯腔室。
•微處理器可控制10個(gè)程序段。
•內(nèi)置安全聯(lián)鎖。
•按鈕蓋啟動(dòng)打開/關(guān)閉。
•觸摸屏圖形用戶界面(GUI),易于編程和安全鎖定以及屏幕錯(cuò)誤報(bào)告。
•*多可使用4個(gè)機(jī)械臂。
產(chǎn)品參數(shù):
產(chǎn)品:晶圓,光掩膜和基板清潔系統(tǒng)
型號(hào):SCSe126
可用機(jī)械臂:4
**基板尺寸:直徑10英寸晶圓片
**主軸速度:2500
配方:*多10
分配:12
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動(dòng)劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
HSE系列等離子刻蝕機(jī)