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這款蝕刻和清潔系統(tǒng)專為滿足當今晶圓、光掩模和基板的前沿應用的特殊工藝需求而設計。這款高效的蝕刻和清潔系統(tǒng)CESx124、126、128或133是理想選擇，可滿足不同大小尺寸的晶片、光掩模和襯底，不論是從小直徑還是非常大直徑。CESx可以配置多種工藝分配選項，Megasonic噴嘴對DI H20或化學藥品的處理分配選項；用于化學制劑的低壓噴嘴；化學加熱器和DI-H20；用于表面攪拌以加快反應的刷子，和/或DI H20等。

特點：

• 專為重要控制和安全而設計的系統(tǒng)。

• 多達9x9英寸/ 300mm直徑的基板兼容性。

• 主軸組件具有直流無刷伺服電機，可實現精確的速度控制和分度。

• 特氟龍涂層不銹鋼臂可調節(jié)臂速度和行進位置。

• 徑向排氣腔，用于**層流，蓋子頂部有N2進料。

• DI-H20加熱器，用于清潔和干燥輔助。

• 過程中包含化學相容性材料PVDF或可選的PTFE。

• 獨立式聚丙烯柜。

• 微處理器控制功能可以在存儲器中保留三十（30）步的配方，每個配方有三十（30）步。配方和步驟的數量均可根據要求擴展。

• 內置安全聯鎖和雙重控制。

• 用聯鎖裝置沖洗整個工藝區(qū)域和基材的pH值，以禁止進入工藝區(qū)域并控制排放和主軸轉速直到安全。

•按鈕蓋打開/關閉。

• 觸摸屏圖形用戶界面（GUI），易于編程和安全鎖定，并帶有屏幕錯誤報告。

•用于化學和房屋排水的排水分流閥。

•設計符合SEMI S2 / S8準則。

技術參數：

• 產品：蝕刻和剝離系統(tǒng)

• 型號：CESx124

• 可用機械臂：4

• **基板尺寸：13英寸直徑

• **主軸速度：2500

• 配方：高達30

• 分配管路：12

主營產品：

Laurell勻膠機

Harrick等離子清洗機

Thetametrisis膜厚儀

Microxact探針臺

ALD原子層沉積系統(tǒng)

TRION反應離子刻蝕機

Uvitron紫外固化箱

NXQ紫外曝光光刻機

Novascan紫外臭氧清洗機

Nilt納米壓印機

Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板

Annealsys高溫退火爐

Kinematic程序剪切儀

Laurell EDC系統(tǒng)，濕站系統(tǒng)

Wabash/Carver自動壓片機