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藥物檢測專用儀器
面議
592
器簡介:射頻離子源:用于離子束沉積,離子束輔助沉積,MEMS
射頻原子源:用于合成氧化物,氮化物,氫原子清洗
技術(shù)參數(shù):
射頻離子源
安裝法蘭口徑:NW63CF,NW100CF
真空腔體內(nèi)長度:290mm
真空腔體內(nèi)端面直徑:57mm, 96mm
兼容氣體:O2, N2, H2, Ar
水冷
射頻功率:30-600W
氣體流量:8-10sccm
束流能量:0.1-1kev
電流密度:可大到5mA/cm2
射頻原子源
安裝法蘭口徑:NW35CF,NW63CF,NW100CF
真空腔體內(nèi)長度:290mm
真空腔體內(nèi)端面直徑:34mm,57mm, 96mm
兼容氣體:O2, N2, H2, CH4
水冷
射頻功率:30-600W
氣體流量:0.01-20sccm
主要特點(diǎn):
無燈絲
安裝容易,可方便地安裝在已有系統(tǒng)上
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動(dòng)劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
HSE系列等離子刻蝕機(jī)