粉體行業(yè)在線展覽
單面精密晶圓銅拋機
面議
夢啟半導體
單面精密晶圓銅拋機
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設備優(yōu)勢
◎ 本設備為單面精密研磨設備,采用先進的機械結(jié)構(gòu)和多種先進控制方法。研磨加工效率高,運行穩(wěn)定。
◎ 整機采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng),設備參數(shù)設置和操作簡單方便,系統(tǒng)運行穩(wěn)定性高。
◎ 主電機采用變頻調(diào)速控制,實現(xiàn)主機軟啟動、軟停機,降低設備運行沖擊,減少工件損傷。
◎ 工件研磨壓力采用氣缸加壓方式,通過電氣比例閥控制實現(xiàn)壓力的閉環(huán)控制,保證極高的施壓精度與穩(wěn)定性。
◎ 上壓盤采用主動驅(qū)動方式,在確保產(chǎn)品研磨速率的前提下保證各工位研磨加工的統(tǒng)一性。
◎ 研磨盤冷卻水冷卻功能,在保證研磨液發(fā)揮**效率的同時減少研磨盤面的變形。
◎ 設備自帶盤面修整機,盤面修整后可保證0.01mm的盤面平整度。
性能參數(shù)
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
等離子化學氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
HSE系列等離子刻蝕機