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定制-RTR濺鍍
面議
毅睿/芯壹方
定制-RTR濺鍍
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RTR濺鍍
主輥直徑 | 1,000mm(φ) x600/1500mm(D) |
真空室 | 5 chambers (Unwind、Pre-Heat、 Coating 、Cooling 、Rewind |
有效涂層寬度 | 1,350mm/500mm |
厚度 | 15~250μm |
速度 | 0.5~20M/min |
傳輸張力 | 2~7Kg @1~3 m/min |
對(duì)準(zhǔn) | ≤±2mm@1~3m/min |
濺射材料 | ITO 、Nb?O5,、SiO2、Si、NbzOX、Cu |
厚度均勻性 | ≤±3% |
靶材利用率 | 70% |
陰極 | Rotatable cathode 4~ 6 sets |
定制-微波等離子體輔助原子層沉積系統(tǒng)
定制-超高真空多腔體自動(dòng)傳輸蒸鍍/濺鍍系統(tǒng)
定制-微型真空回流焊
定制-等離子清洗機(jī)
定制款-濺鍍系統(tǒng)
定制-脈沖激光沉積系統(tǒng)
定制-離子束濺射沉積系統(tǒng)
定制-電子束系統(tǒng)
定制-RTR濺鍍
定制-管路濺鍍
定制-電弧濺鍍
定制- PVD涂層爐
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
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BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
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Pentagon Qlll
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